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產(chǎn)品展示/ Product display

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蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)

蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離、潤(rùn)濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-12
  • 訪  問(wèn)  量:1641
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詳細(xì)介紹

 蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)

一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述:蠕蟲(chóng)膨脹石墨研磨分散機(jī),膨脹石墨烯高剪切設(shè)備,超高速剪切剝離機(jī),管線式在線研磨分散機(jī)

二、希德機(jī)械高剪切分散優(yōu)勢(shì)

SID研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

高剪切分散機(jī)的線速度達(dá)51M/S,由3級(jí)可調(diào)間隙的錐形定子和4級(jí)高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無(wú)級(jí)調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級(jí)上的凹槽一級(jí)比一級(jí)精細(xì),深度,方向的不同增加了流體的揣流。當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成強(qiáng)有力的擠壓、剪切、乳化、粉碎、混合、分散均質(zhì)及研磨作用。從而得到精細(xì)超微粒乳化研磨的較高效益。錐形定子外圍、出料腔體及密封件部位有循環(huán)水冷卻,可根據(jù)用戶(hù)的特殊要求提供多功能的可空轉(zhuǎn)式運(yùn)作。石墨烯研磨分散機(jī)結(jié)合乳化機(jī)與膠體磨的特長(zhǎng),具有吸、消泡能力。使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

 

三、石墨烯分散難題

在石墨烯應(yīng)用的研究中,一個(gè)重要的問(wèn)題就是如何實(shí)現(xiàn)其可控功能化。結(jié)構(gòu)完整的石墨烯是由不含任何不穩(wěn)定鍵的碳六元環(huán)組合而成,化學(xué)穩(wěn)定性高,其表面呈惰性狀態(tài),與其他介質(zhì)(如溶劑等)的相互作用較弱,并且石墨烯片與片之間有較強(qiáng)范德華力。 容易產(chǎn)生聚集,使其難溶于水及常用的有機(jī)溶劑,這給石墨烯的進(jìn)一步研究和應(yīng)用造成了很大的困難。為了充分發(fā)揮其優(yōu)良性質(zhì),并改善其成型加工性(如提高溶解性,在基體中的分散性等),必須對(duì)石墨烯進(jìn)行有效的功能化。 通過(guò)引入特定的官能團(tuán),還可以賦予石墨烯新的性質(zhì),進(jìn)一步拓展其應(yīng)用領(lǐng)域。功能化是實(shí)現(xiàn)石墨烯分散,溶解和成型加工的zui重要手段。 如果說(shuō)石墨烯二維晶體的發(fā)現(xiàn)為凝聚態(tài)物理研究開(kāi)啟了激動(dòng)人心的一頁(yè), 那么功能化石墨烯及其應(yīng)用將為化學(xué)和材料領(lǐng)域提供新的橋梁和手段。

四、液相剪切剝離過(guò)程

液相直接剝離法制備,石液相直接剝離法制備墨烯,,液相直接剝離法,石墨烯研磨分散機(jī),液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機(jī),SID液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機(jī)是是利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離、潤(rùn)濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。

五、蠕蟲(chóng)膨脹石墨研磨分散機(jī) 

太倉(cāng)希德機(jī)械技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)XM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

XMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150 

蠕蟲(chóng)膨脹石墨高剪切分散機(jī)

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